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| 专利名: |
分离膜用清洗剂、该清洗剂的制造方法和清洗方法 |
| 专利号: |
CN200880009663.2 |
| 关键字: |
工业气体分离 |
| 专利类别: |
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| 使用范围: |
本发明涉及分离膜用清洗剂、该清洗剂的制造方法和清洗方法。本发明的目的在于提供一种经济、安全的分离膜的清洗组合物和清洗方法，当对在饮用水、工业用水、河川水、湖沼水、地下水、储水、下水二次处理水、下水、废水等的过滤中使用的分离膜进行清洗时，该组合物和清洗方法的清洗效果为现有的清洗方法的同等以上，并且该组合物不含次氯酸盐，不产生有毒气体，对人体无不良影响，而且由于省去用大量水进行水洗的漂洗工序，因而缩短了清洗时间。本发明公开了一种清洗剂，该清洗剂含有过氧化氢、重金属化合物和羟基二羧酸，上述羟基二羧酸优选为选自由苹果酸、酒石酸、丙醇二酸、柠苹酸、二羟基马来酸以及二羟基丙二酸组成的组，上述重金属化合物优 |
| 申报人: |
五条豊,植田笃齐 |
| 申报单位: |
旭化成化学株式会社 |
| 申报时间: |
2/25/2008 |
| 专利有效期限: |
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专利内容
申请（专利）号:
CN200880009663.2
申请日期:
2008-2-25
公开(公告)日:
2010-2-3
公开(公告)号:
CN101641147
主分类号:
B01D65/06(2006.01)I
分类号:
申请（专利权）人:
旭化成化学株式会社
发明（设计）人:
五条豊,植田笃齐
主申请人地址:
日本东京都
专利代理机构:
北京三友知识产权代理有限公司
代理人:
丁香兰
国别省市代码:
日本;JP
主权项:
1.一种分离膜用清洗剂，其特征在于，该分离膜用清洗剂含有羟基二羧酸。
法律状态:
实质审查的生效
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