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| 专利名: |
气体分离膜系统及其制备或修复方法和用途 |
| 专利号: |
CN200880008275.2 |
| 关键字: |
气体分离 |
| 专利类别: |
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| 使用范围: |
一种气体分离膜系统和制备这种气体分离膜系统的方法，所述方法通过如下步骤进行：提供在其上载带包含第一气体选择性材料且具有膜厚度的膜层的多孔载体，和通过应用超细磨料从所述载体上由膜层中脱除大部分第一气体选择性材料，从而提供具有降低膜厚度的膜层。将第二气体选择性材料沉积于具有降低膜厚度的膜层上，从而提供具有覆盖层厚度的第二气体选择性材料的覆盖层，以从而提供具有降低膜厚度的膜层和覆盖层厚度的覆盖层的气体分离膜系统。 |
| 申报人: |
A·A·德尔帕焦,J·C·索凯提斯 |
| 申报单位: |
国际壳牌研究有限公司 |
| 申报时间: |
2/18/2008 |
| 专利有效期限: |
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专利内容
申请（专利）号:
CN200880008275.2
申请日期:
2008-2-18
公开(公告)日:
2010-1-20
公开(公告)号:
CN101631605
主分类号:
B01D53/22(2006.01)I
分类号:
申请（专利权）人:
国际壳牌研究有限公司
发明（设计）人:
A·A·德尔帕焦,J·C·索凯提斯
主申请人地址:
荷兰海牙
专利代理机构:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人:
王长青
国别省市代码:
荷兰;NL
主权项:
1.一种制备气体分离膜系统的方法，其中所述方法包括：提供多孔载体，其中在所述多孔载体上载带包含第一气体选择性材料且具有膜厚度的膜层；通过应用超细磨料从所述膜层中脱除大部分所述第一气体选择性材料，从而提供具有降低膜厚度的所述膜层；和在具有所述降低膜厚度的所述膜层上沉积包含第二气体选择性材料且具有覆盖层厚度的覆盖层，以从而提供具有所述降低膜厚度的所述膜层和所述覆盖层厚度的所述覆盖层的所述气体分离膜系统。
法律状态:
实质审查的生效
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