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专利名:
使用烧结温度低的含锡无机材料进行气密性密封
专利号: CN200810081549.2
关键字: 制氧
专利类别:
使用范围: 本文描述了一种抑制氧和湿气劣化器件(如OLED器件)的方法及由该方法制得的器件。为了抑制氧和湿气劣化器件,使用含Sn2+无机材料在该器件上形成防渗透层。该含Sn2+无机材料可以是例如SnO、混合的SnO和P2O5粉末,以及混合的SnO和BPO4粉末。
申报人: B·G·艾特肯,M·A·奎萨达
申报单位: 康宁股份有限公司
申报时间: 2/28/2008
专利有效期限:

专利内容

申请(专利)号:
CN200810081549.2 
申请日期:
2008-2-28 
公开(公告)日:
2008-9-3 
公开(公告)号:
CN101256970 
主分类号:
H01L21/56(2006.01)I,H,H01,H01L,H01L21 
分类号:
H01L21/56(2006.01)I,H01L23/29(2006.01)I,H01L51/00(2006.01)I,H01L51/54(2006.01)I,H01L51/46(2006.01)I,H01L51/30(2006.01)I,H01L51/56(2006.01)I,H01L51/48(2006.01)I,H01L51/40(2006.01)I,H01L27/32(2006.01)I,C09K3/10(2006.01)I,H,H01,H01L,H01L21,H01L23,H01L51,H01L27,H01L21/56,H01L23/29,H01L51/00,H01L51/54,H01L51/46,H01L51/30,H01L51/56,H01L51/48,H01L51/40,H01L27/32 
申请(专利权)人:
康宁股份有限公司 
发明(设计)人:
B·G·艾特肯,M·A·奎萨达 
主申请人地址:
美国纽约州 
专利代理机构:
上海专利商标事务所有限公司 
代理人:
沙永生 
国别省市代码:
美国;US 
主权项:
1.一种抑制氧和湿气渗透入器件的方法,该方法包括:将含Sn2+的无机材料沉积到所述器件的至少一部分上;和热处理沉积在所述器件的至少一部分上的所述含Sn2+无机材料。 
法律状态:
实质审查的生效 

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