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日本推出二氧化碳干式洗净装置
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发布时间：2004/8/17 11:04:29
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日本近日推出新型二氧化碳干式洗净装置，可协助业者降低设备运转成本，还可将洗净剂回收循环使用，生产出高品质、高洁净度的产品，并能有效解决液晶面板在传统制程中需要大量水洗，费水而且产生污水处理的困扰，有助于高科技、光电产业的升级。
这款二氧化碳干式洗净装置，可由液化二氧化碳经过特殊机构，制作成3毫米以下的颗粒状干冰，利用喷射原理撞击被加工物，使沾附在工件上的污染质脱落，并由集尘装置收纳，另可搭配界面活性剂灵活运用，有效突破传统湿式洗净方式的缺点，使作业环境不再被污染，不再产生有机溶剂的化学异味，更不会产生破坏臭氧层、排污水等环保问题。该设备设计轻巧、操作简单，洗净效率极高，尤其适合洁净度要求甚高的高科技设备内各类产品、塑胶元件、模型治具、机械零配件等使用。
目前该设备已获日本电子产业、电路基板、精密机械等业界广泛采用。
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