rf-PECVD法在CR-39上沉积类金刚石碳膜的性能研究

作者：彭勃
出处：
发布时间：2011/9/4

浏览次数：2205

【摘要】本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)，以甲烷气体为主要碳源，氩气为稀释气体，同时混入不同比例的氢气，在树脂镜片(CR-39)上沉积类金刚石碳膜(DLC)。利用激光拉曼光谱、傅立叶红外光谱仪、紫外-可见光分光光度计、扫描电子显微镜(SEM)、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和冷冻试验对沉积的类金刚石碳膜的表面结构、价键结合和以树脂材料为基片沉积类金刚石碳膜的光学性能进行了详细的研究。研究结果表明：用射频等离子体增强化学气相沉积方法，在常温条件下可以在CR-39树脂材料上沉积厚度为纳米级的类金刚石碳膜。从类金刚石碳膜的SEM图可看出，在树脂基片上沉积的类金刚石碳膜，膜层致密光滑、没有

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