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用离子注入法制备的纳米硅的光致发光特性研究浏览次数:1754 【关键词】高能离子注入机
法制
纳米硅
光致
样品
波方向
可见和近红外发光
激光照射
钝化处理
衬底材料
激发光强度
注入能量
注入剂量
强度增强
高纯石英
氢气
晶体薄片
光的强度
高温退火
发光特性
【摘要】该文较系统地介绍了纳米硅体系的可见和近红外发光,研究了用离子注入法制备的纳米硅的光致发光特性,同时介绍了取得的一些研究结果.采用石英晶体薄片和非晶高纯石英薄片作为衬底,用高能离子注入机以不同注入剂量和不同注入能量分别把Si<'+>注入到衬底中,经过高温退火进行重新结晶后形成纳米硅样品,部分样品又经过氢气钝化处理.纳米硅样品的测量结果表明:在激光照射下,纳米硅样品具有明显的光致发光现象,而且随着激发光强度的增加,PL谱在短波方向的强度增强明显超过长波方向,但波峰的位置与激发光的强度没有什么关系;同时,PL谱在短波方向表现出的饱和趋势要明显低于长波方向的饱和趋势;在325nm激光照射下,纳米硅样品
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