硅碳氮薄膜的制备与发光性能的研究

作者：符杨
出处：
发布时间：2011/9/4

浏览次数：1783

【摘要】硅碳氮薄膜具有优异的光、电和机械性能，预计在微电子和光电子领域有良好的应用前景。由于硅碳氮薄膜独特的发光性能和从可见光到紫外光范围的可调节带隙，使它成为很有潜力的发光材料。本文采用射频磁控溅射的方法，通过改变氮气的流量制备了一组不同成分的硅碳氮薄膜，分别对薄膜进行不同条件下的退火。研究了薄膜的发光性能(PL)，并进行了微观结构(TEM)，薄膜成分(EDS)，结晶相(XRD)，表面价态(XPS)，表面键(FTIR)分析。研究发现，在高温退火时，相比氩气和氮气，氢气是防止薄膜氧化的最理想保护气氛。 Si<,27.64>C<,15.77>N<,49.63>O<,6.96>薄膜在氢气保护下1200

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