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Ni修饰层对SnO2薄膜气敏性能影响
作者:王磊 杜军 毛昌辉 杨志民 Wang Lei Du Jun Mao Changhui Yang Zh 浏览次数:1731 【摘要】采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni,研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响.对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析,发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要.Ni的表面修饰量在3.4%~8.8%之间将有效提高SnO2薄膜对低浓度氢气的敏感性能.180 ℃工作温度下,表面含Ni 3.4%的SnO2薄膜对1000 ppm的氢气灵敏度最高为59.6,同时响应时间和恢复时间降低至15 s和125 s.Ni修饰量增加到23.4%,薄膜的气敏性能恶化,这是因为修饰层过厚,阻碍气体与SnO2材料接触.同时,XPS证实NiO是增加SnO2薄膜气敏性能的主要物质,增敏机理
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