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不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响
作者:樊志琴 朱庆芳 杨仕娥 姚宁 鲁占灵 张兵临 FAN Zhi-qin ZHU Qing-fang Y
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发布时间:2011/9/4
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【摘要】在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究.实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度.在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2.低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大.
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