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温度对BCl3-CH4-H2化学气相沉积掺硼碳沉积过程的影响
作者:叶昉 张立同 成来飞 赵春年 王鹏飞 YE Fang ZHANG Litong CHENG Laif 浏览次数:2543 【关键词】温度区间化学气相沉积掺硼沉积过程Chemical
Vapor
Depositionscanning
electron
microscopychemical
vapor
depositionmolar
ratiotemperature
rangeenergy
dispersivehigh
densityactivesignificantcarbon
film磁悬浮天平表观活化能the
growthdifferent系统研究位动力学
【摘要】以三氯化硼、甲烷和氢气的混合气体为前驱体,利用磁悬浮天平热重系统研究了850~1200℃区间内化学气相沉积掺硼碳的原位动力学.探索了温度对沉积速率的影响,计算了该温度区间内沉积过程的表观活化能,同时借助SEM和EDS技术.测试了不同温度点(900℃、1000℃、1100℃和1200℃)沉积产物的微观结构和成分.结果表明,化学气相沉积掺硼碳属于典型的热激活反应过程;在所研究的温度区间内存在5种不同的反应控制机制;随着温度的升高,沉积产物的n(B)/n(C)和堆积密度都显著变小,说明高n(B)/n(C)和高致密度的掺硼碳涂层应在较低的温度下制备.
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