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| 帖子主题：半导体用气体精制技术 |
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气体纯度：产品N2中O2:10ppb，H2O:13ppb， 其他气体产品中O2、H2O、CO、CO2、H2:1ppb 该技术可广泛应用于: AsH3、PH3、SiH4、Si2H6、H2S、H2Se、HCl、BF3、SiF4、SiH2Cl2、HBr、NH3、(CH3)2NH、CF4、N2、He、Ar、H2等。 工作压力：0.5Mpa 装置能力：1-2400Nm3/hr 如需更多信息，请径洽上海宝硕化工技术有限公司气体业务销售总监和销售代表。谢谢支持！ |
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