会员注册 | 二级域名申请 | 我能做什么? | 网站说明书 | 协议书下载 | 广告预定 | 企业邮局 | 标准库 | 关于我们
免费法律咨询
首页 企业目录 产品目录 求购信息 二手设备 备品备件 行业资讯 行业论文 行业标准 技术专利 企业管理 行业书库 人才招聘 专家介绍 技术交流 友情链接 我的交易区
技术交流首页 | 登录 | 用户注册 | 今日新帖 | 搜索 | 我的收藏夹 | 插件： 万年历 | 杭州公交线路查询
您当前的位置: 气体分离设备商务网 → 技术交流 --> 工业气体在国民经济中的应用专题系列讲座 --> 帖子:“蚀刻混合气”
收藏此帖
帖子主题：蚀刻混合气
楼主：mxlly [2006/8/21 10:35:01]

蚀刻就是将基片上无光刻胶掩蔽的加工表面（如金属膜、氧化硅膜等）蚀刻掉，而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，以便在基片表面上获得所需要的成像图形。
 
    蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法化学蚀刻所用气体称为蚀刻气体。蚀刻气体通常多为氟化物气体（卤化物类），例如四氟化碳、三氟化氮、三氟甲烷、六氟乙烷、全氟丙烷等。
    常用蚀刻混合气如下：
材质  蚀刻气体 
  铝（Al）
  铬（Cr）
  钼（Mo）
  铂（Pr）
  聚硅
  硅（Si）
  钨（W）
   氯硅烷（SiCl4）+四氯化碳（CCl4）+（氩、氮）
  四氯化碳（CCl4）+氧、四氯化碳（CCl4）+空气
  二氟二氯化碳（CCl2F2）+氧、四氟化碳（CF4）+氧
  三氟三氯乙烷（C2Cl3F3）+氧、四氟化碳（CF4）+氧
  四氟化碳（CF4）+氧、乙烷（C2H6）+氯
  四氟化碳（CF4）+氧
  四氟化碳（CF4）+氧
 
 

 

 

　　

 

 

 


普通帖 多彩帖
标题：

回复内容

快捷键：Ctrl+Enter(提交回复)
Copyright©2001版权所有_杭州汉皇网络科技有限公司 联系我们:webmaster@cngspw.com  浙ICP备10209442号-1 ICP经营许可证 浙B2-20100450
服务热线:0571－85065806  传真:0571－85065896 地址:杭州下城区高新技术产业基地电子商务园区费家塘路588号4号楼402-403室
主办单位：杭州汉皇网络科技有限公司  本网站法律顾问:汪卓君律师(浙江杭天信律师事务所)
cngspw.com(hangzhou_china),Ltd;Allrights Reserved 版权声明  

execute:1,896.484