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纯化指标： Ｎ 2 ≥ 99.99999 ％ |
| O 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 O ≤ 0.01 ppm （ -101 ℃ ） |
| C O 2 ≤ 0.01 ppm |
C O ≤ 0.01 ppm |
| CH 4 ≤ 0.01 ppm |
H 2 ≤ 0.01 ppm |
| 颗粒≤ 0.01 μ m |
工作压力： 0.5 ～ 20Mpa |
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单台处理量： 5~10000Nm 3 /h |
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产品标准： Q/DSM · 020-2005 | |
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• 净化纯度高：采用专利气体净化催化剂， ppb 级气体净化
• 性能可靠：采用洁净阀门、管道、全自动氩弧焊，全面保证气体质量
• 全自动运行：采用全套西门子自控系统及触摸屏人机界面、操作简便
• 适用范围广：根据原料设计工艺流程，满足复杂工况要求 |
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• 电子工业保护气，冶金、冷轧板保护气体设备，石油化工生产用
• 保护气体净化，标准气体、高纯气体生产等行业。
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纯化指标： H2≥99.9999％ |
| O2≤0.1ppm |
H2 O≤0.01 ppm（-90℃） |
| N 2 ≤ 0.1ppm |
C O 2 ≤ 0.1 ppm |
| C O ≤ 0.01 ppm |
CH 4 ≤ 0.1 ppm |
| 颗粒≤ 0.01 μ m |
工作压力： 0.5 ～ 2.0Mpa |
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单台处理量： 5~10000Nm 3 /h |
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产品标准： Q/DSM · 020-2005 |
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• 净化纯度高：采用专利气体净化催化剂、吸气剂及低温吸附工艺， ppb 级超纯气体
• 性能可靠：采用洁净阀门、管道全自动氩弧焊，全面保证气体质量
• 全自动运行：采用全套西门子自控系统及触摸屏人机界面、操作简便
• 适用范围广：根据原料设计工艺流程，满足复杂工况要求
• 工艺先进：首先通过化学吸附脱除大部分杂质，大幅度延长了吸气剂寿命 |
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• 高纯单晶硅的冶炼、晶片外延、大规模集成电路生产光电产业的研制与生产，石油化
工生产气体净化、标准气体、高纯气体生产行业。
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纯化指标： Ar、He≥99.99999％ |
| O2≤0.01ppm |
H 2 O ≤ 0.01 ppm （ -90 ℃ ） |
| N 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 ≤ 0.01ppm C O 2 ≤ 0.01 ppm |
| C O ≤ 0.01 ppm |
CH 4 ≤ 0.1 ppm |
| 颗粒≤ 0. 1 μ m |
工作压力： 0.5 ～ 20Mpa |
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产品标准： Q/DSM · 022-2005 |
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纯化指标： Ar、He≥99.99999％ |
| O 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 O ≤ 0.01 ppm （ -90 ℃ ） |
| N 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 ≤ 0.01ppm C O 2 ≤ 0.01 ppm |
| C O ≤ 0.01 ppm |
CH 4 ≤ 0.1 ppm |
| 颗粒≤ 0. 1 μ m |
工作压力： 0.5 ～ 2.0Mpa |
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产品标准： Q/DSM · 022-2005 |
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变压吸附制氢装置及工程——产气指标： |
| H2≥99.9995％ |
| H2≥99.9995％ |
H2 O≤1.0 ppm |
| C O2≤1.0 ppm |
N2≤1.0ppm |
| C O≤1 .0ppm |
CH4≤1 .0ppm |
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• 从焦炉煤气、合成氨尾气、变换石油化工尾气等多种不同气源出发，量身设计 PSA （ VPSA ）工艺流程和配套处理、净化流程装程。控制采用 DCS 控制系统，操作简便。
装置主要部件均采用进口部件，性能可靠。 |
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• 所制取气体可满足冶金、化工、气体等行业生产需求，经济效益显著。
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| 变压吸附制氮装置及工程——产气指标： |
| H2≥99～99.95％ |
| O2≤0.1ppm |
H2 O≤1.0 ppm |
| C O2≤1.0 ppm |
N2≤1.0ppm |
| C O≤1 .0ppm |
CH4≤1 .0ppm |
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• 采用专利流程可一步由空气制取纯氮，配合净化工艺，可制取超纯气体，操作简单、
性能可靠。
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纯化指标 |
| O 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 O ≤ 0.01 ppm |
| C O 2 ≤ 0 .01ppm |
H 2 ≤ 0.01ppm |
| C O ≤ 0.01ppm |
CH 4 ≤ 0.01 ppm |
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• 净化纯度高：对氮、氢、氩等气体净化纯度可达 99.99995 ％，可满足普遍性的科
研用气需要。
• 实用性强：自带失效指示及再生装置，可多次活化反复使用。
• 设备处理量大： 15L /min
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• 专用于色谱载气净化、以及研究机构少量气体超纯的净化
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纯化指标 |
| O 2 ≤ 0.01ppm |
H 2 O ≤ 0.1 ppm （ -90 ℃ ） |
| C O 2 ≤ 0 .1ppm |
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• 自带失效指示，可同时深度脱除多种杂质总脱氧容量 ≥ 2L 氧 / 支
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• 色谱载气净化以及研究机构少量气体超纯的净化。适用于 N 2 、 H e 、 H 2 、
A r 等气体净化。
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